在半导体制造领域，光刻胶是实现微细图形加工的关键材料。
近日，中国光谷的武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）宣布，其研发的T150 A光刻胶产品已成功通过量产验证，这一成就标志着国产光刻胶在技术上迈出了重要一步。
T150 A光刻胶产品在性能上对标国际领先企业的KrF光刻胶系列。与国外同系列产品UV1610相比，T150 A在光刻工艺中展现了120nm的极限分辨率，同时具备更大的工艺宽容度和更高的稳定性。此外，T150 A在坚膜后烘留膜率方面表现出色，对后道刻蚀工艺更为友好，能够实现更优异的侧壁垂直度。
太紫微公司成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。企业负责人朱明强教授，作为英国皇家化学会会员，表示：“我们团队将不断推出应用于不同场景的KrF与ArF光刻胶，为国内半导体产业带来更多创新成果。”
太紫微公司的外聘专家顾问向诗力博士指出：“随着国内半导体产业的崛起和摩尔定律的演变，光刻领域将迎来更多新技术和新企业的涌现。但科技创新是企业生存和发展的关键。”
这一突破不仅展示了中国在半导体材料领域的自主创新能力，也为国内半导体产业的自主可控提供了有力支持。太紫微公司的这一成就，无疑将激励更多国内企业投身于半导体材料的研发，共同推动中国半导体产业的持续进步。
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